Standard Test Method for Thickness of Epitaxial or Diffused Layers in Silicon by the Angle Lapping and Staining Technique (Withdrawn 2003) (Includes all amendments And changes 8/16/2017).
NORMA vydána dne 10.12.2000
Označení normy: ASTM F110-00a
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 10.12.2000
Počet stran: 4
Přibližná hmotnost: 12 g (0.03 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM
Keywords:
angle lapping, diffused layer, epitaxial layer, etching, fringe count, staining, thickness, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)