
Standard Practice for Shallow Etch Pit Detection on Silicon Wafers (Withdrawn 2003
NORMA vydána dne 10.12.2002
Označení normy: ASTM F1049-02
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 10.12.2002
Počet stran: 4
Přibližná hmotnost: 12 g (0.03 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM
Keywords:
epitaxial, oxidation, preferential etch, saucer pit, shallow etch pit, silicon, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)